企业简介
天津西美半导体材料有限公司是一家专门致力于光电材料及机电设备技术开发、生产、销售及服务的科技型企业；公司拥有一支高素质、高技术含量的研发团队，硕士以上学历占67%，同时聘请了国内知名大学的专家作为企业技术研发顾问；公司严格按照ISO9001质量体系进行管理，主要经营产品有抛光液、抛光蜡、抛光模板、硅片清洗剂、非离子表面活性剂等;公司拥有净化车间，研磨机、单双面抛光机各一台，可根据客户不同工艺进行实际模拟加工试验，以保证我公司产品适应各种工艺需求，力争为客户提供优质的产品及配套服务。
天津西美半导体材料有限公司的工商信息
- 120193000069329
- 91120116055257938L
- 存续
- 有限责任公司
- 2012-10-10
- 王翠彬
- 500万元
- 2012-10-10 至 永久
- 天津市滨海新区市场和质量监督管理局
- 天津华苑产业区海泰发展六道6号海泰绿色产业基地G座401室-04-24
- 光机电一体化技术开发、咨询、服务、转让；电子元器件、机械设备批发兼零售；从事货物及技术的进出口业务；以下限分支机构经营：半导体抛光材料制造。（以上经营范围涉及行业许可的凭许可证件，在有效期限内经营，国家有专项专营规定的按规定办理。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
天津西美半导体材料有限公司的商标信息
天津西美半导体材料有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN106147616A | 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法 | 2016.11.23 | 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法，其特征在于：该制备方法首先对氧化铝颗粒进行粒径分级，再加入分散 |
| 2 | CN205613356U | 氧化铝抛光液配置装置 | 2016.10.05 | 本实用新型公开了一种氧化铝抛光液配置装置，该装置包括用于配制氧化铝抛光液的物料桶、搅拌装置、粒径分级 |
| 3 | CN104559796A | 应用于超硬表面的表面改性氧化铝抛光液的制备方法 | 2015.04.29 | 应用于超硬表面的表面改性氧化铝抛光液的制备方法，其特征在于：该制备方法首先制备所需的特定改性剂，再用 |
| 4 | CN104178034A | 一种锗抛光液 | 2014.12.03 | 本发明公开了一种用于锗晶片的高效、pH值稳定的抛光液组合物，其组成成分是所占重量百分比为：磨料1％- |
| 5 | CN104178033A | 纳米二氧化铈抛光液组合物 | 2014.12.03 | 本发明提供了一种适用于水晶、光掩模用石英玻璃、半导体装置、玻璃制硬盘、硅氧烷类等的半导体装置的层间绝 |
| 6 | CN104178367A | 蓝宝石衬底用去蜡清洗剂 | 2014.12.03 | 本发明涉及一种蓝宝石衬底用去蜡清洗剂的制备方法，其特征在于：所述蓝宝石衬底用去蜡清洗剂含有淀粉糖苷表 |
| 7 | CN104109480A | 双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液 | 2014.10.22 | 本发明涉及一种双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述蓝宝石衬底抛光液是专门针对双面抛光机使用 |
| 8 | CN103897605A | 单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液 | 2014.07.02 | 本发明涉及一种单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液是专门针对单 |
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